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- 產(chǎn)品描述
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- 商品名稱: 多孔碳硅烷CVD沉積碳包覆一體真空爐
應(yīng)用領(lǐng)域：
多孔碳材料CVD沉積 甲烷、乙炔CVD碳包覆
工藝特點：
本設(shè)備采用粉體霧化轉(zhuǎn)流化先進工藝使CVD沉積更充分；
特殊的多弧形坩堝避免藏料，全范圍無死角；
高速的霧化及一體爐雙重的工藝，使硅碳包覆更均勻就把硅烷利用率提高90%以上；
5層真空室使用硅烷氣體安全得到保證上。
型 號
外型尺寸
裝載量
工作溫度
極限溫度
真空度
總功率
氣氛類別
設(shè)備重量
MGB140-120-200HL2
6000*5000*5000
200KG
400℃~800℃
1000℃
1-2.5Pa
230KW
SiH4/CH4
10T
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